等離子體清潔是一種清潔方法，其依賴于“等離子體狀態(tài)”物質(zhì)的“活化”以去除物體表面上的污漬。它屬于電子行業(yè)清潔中的干洗。真空泵需要制造某些真空條件以滿足清潔要求。下面我們來談?wù)?a data-mid="135" href="http://chillinonthelucie.com/a/3610.html">旋片式真空泵在等離子清洗技術(shù)中的應(yīng)用過程，并說明旋轉(zhuǎn)。薄膜真空泵有什么特點。
等離子體清洗所需的等離子體主要由特殊氣體分子在真空和放電等特殊場合產(chǎn)生，如低壓氣體輝光等離子體。簡單地說，開頭提到，等離子體清潔需要在真空下進行，因此需要旋片式真空泵進行抽真空。
用于等離子清洗的旋片式真空泵的工藝是什么？主要工藝包括：首先將待清洗工件送入真空室進行固定，啟動旋片式真空泵等，開始抽真空，排氣至約10Pa的真空;然后將用于等離子體清洗的氣體引入真空室不同，所選擇的氣體是不同的，例如氧氣，氫氣，氬氣，氮氣等，并且壓力保持在約100Pa;在真空室中的電極和接地裝置之間施加高頻電壓以使氣體被破壞，并且通過輝光放電產(chǎn)生等離子體以產(chǎn)生等離子體;在真空室中產(chǎn)生的等離子體完全覆蓋待清潔表面之后，開始清潔操作，并且清潔過程持續(xù)數(shù)十秒至數(shù)分鐘。整個過程依賴于等離子體在電磁場的空間內(nèi)移動并轟擊待處理物體的表面，從而實現(xiàn)表面處理，清潔和蝕刻的效果 ）;在清潔完成后，蒸發(fā)被排出。污垢和清潔氣體，同時將空氣送入真空室以恢復(fù)正常大氣壓。
在清洗過程中，當旋片式真空泵控制真空室的真空環(huán)境時，氣體的流速決定了發(fā)光的色度：如果色度較重，真空度較低，氣體流量為大;當它是白色時，真空度太高，氣流很小;需要根據(jù)所需的處理效果確定特定的真空度。
等離子清潔技術(shù)不區(qū)分物體的基板類型，金屬，半導(dǎo)體，氧化物和大多數(shù)聚合物材料。原料如乙烯可以很好地處理，并且可以作為整體清潔并且局部和復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。它還具有環(huán)保，安全，易控制的優(yōu)點。因此，在許多方面，特別是精密零件清洗和新型半導(dǎo)體材料的研究和集成電路器件制造業(yè)已逐漸取代濕法清洗工藝。
與其他國內(nèi)同類產(chǎn)品相比，旋片式真空泵在等離子清洗技術(shù)中的優(yōu)勢：1.易于使用，易于安裝和維護;
2.旋片式真空泵配有氣鎮(zhèn)閥，可去除少量水蒸氣;
3.旋片式真空泵的極限真空度很高;
4.內(nèi)置強制油，充分潤滑，性能可靠;
5.帶自動防回油雙重安全裝置;
6.即使進氣壓力為1.33×10Pa，也能連續(xù)運轉(zhuǎn);
7.無漏油，無注油，對工作環(huán)境無污染。
